飞碟烫画机

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全自动光刻机

全自动单 /双面接近式曝光机,兼容方形片光刻 6-8寸晶圆单、双面曝光机 尺寸可定制。

光刻机,又称掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等,是半导体制造中的关键设备。其工艺流程涵盖硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘及刻蚀等步骤,每一步都至关重要,共同确保了半导体器件的精确制造。

全自动光刻机:实现全程程序控制,主要针对大规模生产需求,极大提升生产效率。光刻机是现代电子工业中不可或缺的设备,对于芯片制造具有至关重要的作用。

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